| -真空束中定义用于颗粒降低孔径清洗 |
| WOUS11000484 2011-3-16 发明申请 |
| 2011-10-13 |
| 一种方法是一种离子注入系统中提供用于减少颗粒污染，其中一离子注入系统具有源; 质量分析仪，分辨孔，decel抑制板，和端站被提供。一离子束形成是通过该离子源，和一工件是一个外部环境之间传送和用于离子注入到其上的所述端站。一种decel抑制电压施加到所述decel抑制板与所述工件是调制的并发转印，其中使该离子束以膨胀和收缩，其中所述的一个或多个表面分辨孔和\/或一个或多个该分辨孔被冲击的组件下游通过该离子束，其中减轻后续污染的工件从先前驻留在所述一个或多个表面沉积材料。该污染可通过去除所述先前沉积的材料被减轻或强烈地粘附所述先前淀积材料以所述一个或多个表面。 |
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