| 质量分析装置及质量分析方法 |
| WOJP16056166 2016-3-1 发明申请 |
| 2017-9-8 |
| 该质量分析装置上设有质谱仪2，质谱产生单元31，绝对强度比较单元(32)，各自的波峰图案；比较单元(34)，以及目标成分校准单元35。质谱仪2受试者的样品直接电离质谱分析。质谱产生单元31产生一个质谱的质谱质量的基础上，光谱仪2。绝对强度比较单元(32)将阈值与所述峰的绝对强度中包含的质量质谱产生单元所产生的光谱31。峰值模式比较单元(34)将预先设定的峰值图形和所述质谱产生的质量频谱生成部(31)彼此。靶成分测定部(35)判定样品中是否含有目标组分的存在与否，在基于从绝对强度比较单元的比较结果(32)和从比较结果峰值模式比较单元(34)。 |
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