| 质量分析仪 |
| WOJP08001602 2008-6-20 发明申请 |
| 2009-12-23 |
| 当该隔离的一特定离子被执行和一解理的操作是通过使用执行的CID，所述离子是通过施加一个高频率捕获的高电压到一个环电极(31)如前所述。所述离子是通过施加该高频率捕获的高电压不与所述环电极(31)，但到端帽电极(32，34)一个清洗过程中所述离子到所述的弹出之前立即TOFMS(4)中的一种状态，其中所述目标中的离子是一种离子阱(3)中累积。在这种场合，该频率被设定为较高和所述幅值被设定为较大比所施加的电压到所述环电极(31)，大pseudopotential被固定，和lmc被保持。因此，该分布所述空间的所述清洗的离子是变窄，所述初始位置的变化在所述离子所发射的所述的时间被减少，和质量分辨率被改善。高的质量选择性，也可以固定由于该离子隔离的一种高M\/Z离子可以被在一高Qz值执行如前所述。 |
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