| ART质谱阱中痕量气体浓度 |
| US14384782 2013-3-13 发明申请 |
| 2015-1-29 |
| 一种检测离子阱中特定气体种类的方法，该特定气体种类最初是气体体积中第一低浓度的痕量组分，该方法包括电离包括特定气体种类的气体，从而产生特定离子种类。 该方法还包括产生静电势，其中特定离子物种被限制在离子阱中的轨道上。 该方法还包括用具有激励频率的AC激励源激励受限特定离子物种，扫描AC激励源的激励频率以从离子阱中喷射特定离子物种，以及检测喷射的特定离子物种。 该方法还包括在扫描喷射特定气体物种的离子的激励频率之前，相对于第一低浓度增加离子阱内的特定离子物种的浓度。 |
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