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落射顶锥壳层光超解析系统及显微镜

TW108107727 2019-3-8 发明授权

2020-8-21

本发明提供一种落射顶锥壳层光超解析系统及落射萤光显微镜。落射顶锥壳层光超解析系统包含：发光元件、透镜组及物镜。发光元件发出的激发光通过透镜组后折射为环形光并聚焦至物镜的后物镜后焦平面物镜将环形光聚焦形成环形光锥并聚焦于样本位置环形光锥具有固定之厚度。此外激发及取像皆使用同一物镜进而达成落射萤光显微镜。