| 一种方法用于提高质量的离子束注入系统 |
| JP2016527114 2014-7-17 发明申请 |
| 2016-9-23 |
| 所要解决的问题 : 离子束的离子注入器公开了一种用于提高质量。溶液 : 离子注入系统的部分，离子源引入的具有所需离子一起拉出，从而引入污染工件。作为离子源腔室中的污染物质等杂质。这个问题，劣化时，所述质谱仪的离子束中未画出，更严重的情况下，含卤素气体是所希望的。在离子室的稀释气体引入到所述腔室的内表面上的不利影响，减小可以是卤素，拉出可减少离子束中的污染物。在一些实施例中，所述的稀释气聚锗烷或硅烷。选择附图中 : 图。2 |
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