一种离子注入机宽束均匀性调节装置
 
CN201310605657.6  2013-11-26  发明申请

2014-3-26
 
  本发明公开了一种离子注入机宽束均匀性调节装置。为了解决宽束均匀性难以控制的问题,所述宽束均匀性调节装置包括多灯丝离子源、多缝引出电极板、垂直质量分析器、分析光栏、挡束光拦、基板和固定法拉第阵列;所述多缝引出电极板将等离子体引出并送入垂直质量分析器内,所述垂直质量分析器将离子体分选后送入分析光栏中,该分析光栏具有多条分析缝,在分析光栏的出口处设有挡束光拦, 所述固定法拉第阵列使宽带离子束全部进入固定法拉第阵列的法拉第本内;水平往复移动的所述基板位于所述挡束光拦与固定法拉第阵列之间。本发明的光路结构相对简单,宽束均匀性调节操作简便,可靠性高的用于低温多晶硅OLED器件生产线。
 
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