| 具有可变能量控制离子注入系统和方法 |
| US14584252 2014-12-29 发明申请 |
| 2015-7-16 |
| 提供了一种用于在工件上以变化的能量注入离子的离子注入系统和方法。 该系统包括配置成将掺杂剂气体电离成多个离子并形成离子束的离子源。 质量分析器位于离子源的下游，并被配置成对离子束进行质量分析。 减速/加速级位于质量分析仪的下游。 能量过滤器可以形成减速/加速级的一部分，或者可以位于减速/加速级的下游。 提供具有与其相关联的工件支撑件的端站，用于在还提供离子束之前定位工件。 扫描设备被配置成相对于彼此扫描离子束和工件支撑件中的一个或多个。 一个或多个电源可操作地耦合到离子源、质量分析器、减速/加速级和能量过滤器中的一个或多个。 控制器被配置为在扫描离子束和/或工件支撑件的同时选择性地改变分别提供给减速/加速级和能量滤波器中的一个或多个的一个或多个电压，其中所述一个或多个电压的选择性变化至少部分地基于离子束相对于工件支撑件的位置。 |
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