| 一种电子轰击离子源机构 |
| CN201310123314.6 2013-4-10 发明申请 |
| 2013-7-17 |
| 本发明涉及一种电子轰击离子源机构，包括进样组件、电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件，进样组件固定连接在电离室上，电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件依次设置。与现有技术相比，本发明能够对样品离子进行5000V的高压加速聚焦，该离子源利用极片聚焦系统实现离子源的光学聚焦，可以得到用于高分辨质谱的样品离子束。同时，该离子源可实现离子源狭缝的调节，对于不同分辨率和不同灵敏度的质谱分析条件下都适用。离子源光学系统依据经过精确计算和仿真分析的可靠数据。 |
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