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4
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一真空处理过程中使用的组件
WOIB13050941 2013-2-4 发明申请
2014-1-16
一组件用于使用一真空处理过程中,该组件包括一处理室1。气体分析装置,以所述腔室1内的样品并分析所述气体组合物是提供,所述气体分析装置包括一测量装置14基于任一微型质量光谱仪上或在一个微型等离子体源,其是位于一个细长壳体18。所述壳体18的部分是位于所述处理室1内,使得所述气体是分析在该腔室1。该工艺可以被控制在响应于所述气体分析。
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