| 一种飞秒激光后电离质谱装置 |
| CN201410553495.0 2014-10-17 发明申请 |
| 2015-3-4 |
| 本发明公开一种飞秒激光后电离质谱装置，它包括真空腔室、样品固定架、初次电离源、后电离源、离子光学系统和飞行时间质谱；采用离子枪或激光等方式作为初次电离源对固体表面进行溅射，在上述初次电离源溅射过程中将会产生样品离子和中性粒子，其中以中性粒子为主的溅射成份很大的限制了分析结果的准确性和分辨率。本发明中将飞秒激光作为中性粒子的后电离手段，很大程度上提高了样品的电离效率。本发明最后采用飞行时间质谱的方式对样品电离成份进行分析。 |
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