| 质量 |
| JP2013141829 2013-7-5 发明申请 |
| 2013-10-10 |
| 要解决的问题 : 特殊处理而不使用一样品板，该矩阵当所述样品的附着后板被放置在一精确的检测级的位置偏差，通过校正该偏移中的位置与相对于该区域指定由该分析，所述的精确质谱。溶液 : 所述板的表面上的样品具有一大量的微小缺陷，其每个板上的图案是不同的，这里，所述定位参考图像存储部分39; 该板3被安装在一个样品台2和，所述表面的所述预定区域的所述板3所述研磨microobservation的划痕的图案，它被保存。一旦在该阶段2取出从一个然后样品板3再次放置在该阶段2，该研磨所得到的图像在其上的划痕所述的点和所述位置数据存储在所述存储部39上的所述抛光所述位移的从该位置差计算出的是，所述计算出的位置校正单元分析器24根据该区域的一个偏差量指定由该分析，以正确的位置信息，将选择的绘制 : 图7 |
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