| 和涉及所述的控制离子中的改进 |
| WOGR13000037 2013-6-25 发明申请 |
| 2014-1-3 |
| 本发明涉及一种引导装置具有一真空室，其是在背景压力和包括一气体入口开口从其向投放所形成的一自由射流中的气体流从一其出口端为该方向的一孔的管道。所述导管是位于沿着一个轨迹轴的所述自由流动的喷射流和尺寸，以抑制所述自由喷射流的自由膨胀，以形成层流气体从所述孔的所述入口端下游流动图案。所述导向装置可以被，用于例如，一质谱仪，一差动迁移率光谱仪，或一质谱仪该式中包括一个隔室的一基于真空区域，其被配置成便于分离前在差分离子迁移率的特性。各种管道的配置被描述的和预期的，还描述和进一步考虑各种配置在其两个或更多的所述的管道相同或不同的几何形状是可通信地耦合到一个另一。一种背景压力设定所述的方法所述真空室中的所述导向装置被进一步提供的。 |
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