| 质谱用线性离子阱 |
| US11216459 2005-8-31 发明授权 |
| 2008-1-29 |
| 一种用于操纵离子阱中的离子的方法，包括存储离子，空间压缩和根据质量-电荷比喷射所选择的离子。 一种离子阱，包括注入口，具有用于限制和空间压缩离子的第一和第二端部的臂，以及用于从第二端部喷射离子的喷射口。 所述臂包括两对相对的电极，所述两对相对的电极在所述离子阱的任何横截面处提供四极电场电势。 对置电极之间的距离和电极的横截面积从第一端增加到第二端。 所述电极可以是锥形圆柱形杆或具有双曲线横截面。 所选择的用于喷射的离子在空间上被压缩到第二(较宽)端部的区域中。 所述离子阱可以包括具有正交或轴向喷射的一个臂，或者具有用于正交喷射的中心插入件的两个臂。 |
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