| 金属硼化物离子源中的表面涂层 |
| GB1008064 2010-5-13 发明申请 |
| 2010-12-22 |
| 一个电子冲击(ei)或化学电离(Ci)用于一质谱仪是本发明公开了一种离子源包括一金属硼化物涂层或表面上。所述金属硼化物涂层或表面可以被提供，例如，在至少一个部分的一个或多个电离室2，一个或多个鸟电极3，或一出口板或出口孔，通过其中离子被发送，所述金属硼化物涂层或表面可以包括一种过渡金属硼化物或二硼化，硼化物或二硼化合金，或一混合金属硼化物或二硼化合金。所述涂覆表面的所述离子源是旨在降低吸附，降解或分解之前与所述表面接触时化合物的电离。 |
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