| 离子注入装置 |
| JP2010128422 2010-6-4 发明申请 |
| 2011-12-15 |
| 要解决的问题 : 以提供一种离子注入装置，其实现了CoO低的离子注入到玻璃衬底而不使用准直透镜。溶液 : 本发明所述的离子注入装置是一个质量-质谱型离子注入装置1，它辐射一带-状离子束3在一玻璃基板7，和被提供与离子束发散装置在一个运输路由的所述离子束3从离子源2到质谱分析磁铁4。所述离子束发散装置定义一个平面上发散离子束3通过一长侧方向(Y方向)和一个行驶方向(Z方向)的所述离子束3在一个长侧方向的所述平面，使所述离子束的照射角度3，它是一个垂直的线之间的角度在该玻璃基板7和所述离子束3入射在该玻璃基板7，变成大于零度和等于或小于允许的发散角设置基于设计规则。版权 : (C)2012，inpit |
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