| 所述掩模坯料，用于传送和制造方法。 |
| JP2013029740 2013-2-19 发明申请 |
| 2013-10-24 |
| 一掩模坯料具有这样的结构，其一个衬底上形成一薄的膜，所述掩模坯料被其特征在于，所述薄膜含有至少一个元件包括一材料选自钽，钨，锆，铪; 钒，铌，镍，钛，钯，钼和硅，和所述至少一个离子选择的标准化二次离子强度从一钙离子，镁离子和铝离子为1。～×当所述的表面10a-3或更少所述薄膜是由时间--飞行的测量二次离子质谱(TOF-SIMS这种SIMS)下测量条件 : 所述初级离子物质是bi3++，所述初级加速电压是30伏和所述初级离子电流被3.0NA。 |
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