| 一种成像质谱方法及其在装置中的应用 |
| EP08154620 2008-4-16 发明申请 |
| 2009-10-21 |
| 一质量光谱成像的方法和一个相应的装置被提供，其中所述M\/Z-离子的比值以及作为该一样品表面上的所述的离子位置被检测的同时在一个时间飞行质谱仪。所述检测器是一个半导体阵列检测器包括像素，其每个可以被设置到测量信号强度一感应的信号的通过所述的离子或它们的时间到达。四-组成的三维图像的所述两个所述样品表面上的横向尺寸，所述M\/Z-比表示所述离子型所述表面上和所述离子型的丰度可以被用于其中一个对应重建从重复测量适合于计算机程序产品可以被涉及。 |
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