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电子轰击离子源的离子空间中的电荷不稳定而影响控制方法

JP2008508867 2006-3-31 发明申请

2008-11-13

在用于抑制空间电荷的方法在离子源相关的影响，电子束被引导到腔室以产生离子从腔室中的样品材料。电压脉冲施加到所述腔室以扰动电子空间的电荷中存在的室。离子源可以是电子撞击电离(ei)装置。离子源可以结合工作，与质谱联用系统。