产业集群信息网

产业专利数据

一种ICP-MS分析系统

CN201220756835.6 2012-12-29 实用新型

2013-7-10

本实用新型公布了一种ICP-MS分析系统，所述分析系统包括ICP源、检测器；所述分析系统进一步包括：线性离子阱，所述线性离子阱设置在所述ICP源和检测器之间。本实用新型具有更高的碰撞碎裂效率、更多的离子-分子反应通道、以及提供高灵敏度的测量模式等优点。