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矽硼烷布值方法

TW100115332 2011-5-2 发明申请

2012-11-16

布植矽硼烷分子或所选之离子化的较低质量副产物到工件里的方法一般包括在离子来源中气化和离子化矽硼烷分子，以生成电浆和产生矽硼烷分子和其离子化的较低质量副产物。然後抽取电浆里之离子化的矽硼烷分子和较低质量副产物以形成离子束。离子束以质量解析器磁铁加以质量解析，以允许所选之离子化的矽硼烷分子或所选之离子化的较低质量副产物由此通过并布植到工件里。