制备用于质量光谱测定法的一个矩阵层
 
GB0724508  2007-12-17  发明申请

2008-1-23
 
  本发明涉及用于制备一基质层在一个样品支撑用于质谱分析。一个方面的所述本发明包括检测一个光信号是被衰减,反射或散射由该矩阵层,和使用该光信号到检查所述基体层或以调节所制备的所述基体层。
 
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