| 新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统 |
| CN201010514043.3 2010-10-13 发明申请 |
| 2012-5-9 |
| 本发明公开了一种新型大倾角单片式注入离子注入机离子光学系统，涉及离子注入机，属于半导体制造领域。所述的离子源，产生需要的各种离子；所述的源过滤磁铁，初次进行离子偏转筛选；所述的加速管，束能量加速或减速到所需注入的能量；所述的质量分析器，实现离子筛选功能；所述的分析光栏，为可调分析缝，使所需要的离子通过，对离子具有提纯作用；所述的偏转扫描系统，将束扩张水平带状束；所述的平行束透镜，使离子束校正为平行束；所述的大倾角单片靶盘，单片装载晶片，注入角度0°-60°可调。本发明可实现大倾角离子注入机的光学系统的要求，具有离子纯度高、离子能量精确度高、注入角度精确高、传输效率高等优点。 |
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