| 清洗装置，用于清洗的CVD装置和方法的CVD装置 |
| EP04720142 2004-3-12 检索报告 |
| 2009-1-28 |
| 它是一个对象，以提供一种装置，用于清洗的CVD装置，其通过-产品可以有效地除去这种作为SiO22或Si3N4粘贴并沉积在所述内部的壁表面; 一个电极或膜中形成一反应室中的该等过程，和此外，可以执行清洗在其中所述的一种清洗气体被排出的量是非常小，在一环境的影响，例如全球变暖的是小，一气体利用效率是高和成本可以降低，和一种方法用于清洗的CVD装置使用所述相同的清洗装置。一控制进行到监视器所述的发光强度数据F中的自由基反应腔室由一个光发射的光谱装置和以比较该数据与预先存储的校准的发光强度数据与Ar，和对端一预定时间后经过清洗，因为发光强度达到饱和点是，和此外，所述sif4浓度的数据在一个从所述反应室排出的气体被监视的一个傅里叶变换红外质谱sif4与预先存储的浓度数据和被比较以决定使所述预定时间已经经过当一个预定的清洗终点的浓度被达到，从而结束清洗。 |
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