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使用质谱分析的指纹分析

US11501053 2006-8-9 发明申请

2007-8-16

本发明涉及一种使用基质辅助质谱技术确定指纹上或指纹内是否存在残余物的方法。基质辅助质谱技术可以选自基质辅助激光解吸/电离质谱飞行时间质谱(MALDI-TOF-MS)和/或表面辅助激光解吸/电离飞行时间质谱(SALDI-TOF-MS)。