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离子源的自动清洗

GB0622361 2006-11-9 发明申请

2006-12-20

本发明涉及所述的自动清洗离子源内的质谱仪，特别是所述的清洗离子源，其中所述的基质-辅助激光解吸离子被产生的(maldi)。本发明由清洁所述电极中的所述离子源，其被污染与有机材料，该质量光谱仪中本身通过产生与反应性离子刻蚀由一电产生的气体放电在一个专用导入反应物气体。