装置用于进行电离解吸
 
GB1003331  2010-2-26  发明申请

2010-6-9
 
  一种装置,用于所展示的含水试样用于分析通过解吸电离,例如MALDI或Q-TOF,包括一种半导体晶片主体12包括一第一表面13和多个第二表面14,其是通过第一包围表面,其中第二表面形成由部分第一表面的破坏。第二的表面是更亲水比第一的表面,和第一的表面是多种疏水性比第二的表面,因而在应用含水样品以第一的表面,该样品在第二的表面是朝向和浓缩。第二的表面可以通过臭氧氧化,和可以通过热处理形成的,化学或酶处理,或优选地,激光烧蚀。第一的表面可以被官能化与一种硅烷,优选(tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl)二甲基氯硅烷,和第二的表面可以与一个氢原子或羟基官能化的部分。
 
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