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改进的离子源，用于质谱

GB1008050 2010-5-13 发明申请

2010-11-17

一种离子源是本发明公开了其中该离子源是由从一种过渡金属(特别是钛)，其具有被进行离子注入。传统的离子源可以遭受增加的表面污染以下规则分析的复杂的矩阵中提取。一个注入过渡金属如钛提供一种更坚固和更少的反应性表面，因此需要较少的广泛清洗，以保持所述相同的高性能。