| 对衬底进行表面处理的装置和方法 |
| US11598067 2006-11-13 发明申请 |
| 2007-3-22 |
| 一种用于衬底表面处理的设备和方法，由此可以通过防止衬底的过度等离子体处理来保持衬底的质量。 在对反应室中的基板表面进行等离子体处理时，提供发射光谱分析装置或质量分析器，以及控制器，从而当检测到基板中包括的溴时，控制等离子体中离子的能量降低，并且当检测到基板的杂质去除结束时，控制对基板的表面处理停止。 一旦溴与衬底分离，就防止溴再次粘附到衬底上并腐蚀衬底。 此外，在杂质去除结束时，防止离子过度照射到衬底上，从而减少对衬底的损伤。 |
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