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利用硅上解吸附/电离质谱(DIOS-MS)吸附,检测和鉴定环境空气组分
US10545332 2004-2-9 发明申请
2007-2-1
本发明提供了一种通过将空气引导到多孔光吸收半导体(例如,多孔硅(“DIOS”)芯片上的解吸附/电离)的表面上来主动或被动地采样空气的装置,系统和相关方法。 在吸附分析物时,可以通过激光解吸/电离飞行时间质谱法直接分析表面。 因为激光解吸/电离和随后的质量检测过程不需要升高的温度,所以避免了分析物的热降解。
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