| 用于离子注入装置和方法 |
| KR1020070137150 2007-12-26 发明申请 |
| 2009-7-1 |
| 目的 : 一种离子注入设备和离子注入方法被提供以缩短处理时间，以被需要用于离子注入，以形成一掩模的紧固件。的结构 : 所述源室(110)包括所述离子源部分(111)，所述质量分析仪(112)，和所述的离子加速部分(113)。该束线(130)被安装在所述离子源部分和所述处理室(120)。所述光束出口(140)被连接到所述的束线，所述空气轴承(121)穿过所述底部的所述处理室。所述顶部的所述空气轴承包括一个roplat(122)。所述压板(123)被安装在所述炉扁平。该晶片(124)被沉积在所述台板，所述掩模的紧固件(200)被安装在所述光束出口。kipo2009 |
微信公众号