| 离子回旋共振质谱仪中填充水平的控制 |
| GB0610744 2006-6-1 发明申请 |
| 2006-7-12 |
| 用由物质流产生的离子混合物调节离子回旋共振质量分析器的测量单元的填充过程，包括提供具有测量单元和参比质量分析器的离子回旋共振质量分析器； 向参比质量分析器提供一部分离子混合物以获得参比质谱； 对参比质谱进行评价，得到调节填充过程的参数； 利用参数调节离子回旋共振质量分析器的测量单元的填充过程。 本发明涉及一种离子回旋共振质谱仪，包括离子源，离子分束器，离子回旋共振质量分析器，参比质量分析器，评估系统和用于填充离子回旋共振质量分析器的测量单元的控制装置。 |
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