| 质谱分析装置 |
| JP2007282189 2007-10-30 发明申请 |
| 2009-5-21 |
| 要解决的问题 : 分散到光谱的光发射，当一半导体晶片W被处理的一个不同的层在一所需的分辨率来分析所述各层的物理和\/或化学特性，而不需要用于调整一凹形表面用于每个波长的衍射光栅212。溶液 : 一光谱测定分析装置包括一个入口狭缝211，该凹表面的衍射光栅212，一个光学检测器，以及一个光检测器的表面2a13a所述光检测器被设置，在一所需的位置，其中分辨率以获得物理和\/或化学特性的所述半导体晶片W的两个或多个不同的处理是获得用于所述的光，发出在所述各处理，其是从一指定的不同位置P确定由所述凹表面的衍射光栅212。版权 : (C)2009，inpit |
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