| 等离子体处理装置和等离子体处理方法 |
| US11068805 2005-3-2 发明申请 |
| 2006-2-9 |
| 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够在样品的表面的较宽区域上完成样品的精细且精确的处理。 本发明提供一种等离子体处理装置(100)，其具有处理室(101)，在中间部和周缘部供给不同量的冷却剂的样品台(102)，以及在中间部和周缘部供给不同量的气体的喷淋板(109)。 等离子体处理装置(100)还具有在处理室(101)中接收等离子体光发射的光接收部(125)， 光发射光谱仪124，分析处理室下部空间中的气体质量的质谱仪129，以及控制装置130，控制用于控制供应到处理室中的气体的流量的流量控制器120, 121，以及用于使用关于光发射分析和质量分析的数据两者来控制供应到样品台102的冷却剂的流量的冷却剂流量控制器131。 |
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