| 用于分析的ALD方法源气体 |
| KR1020030061647 2003-9-4 发明申请 |
| 2005-3-11 |
| 目的 : 分析一ALD(原子层沉积的方法)源气体被提供以确认沉积机构由正确地分析所述ALD一种内源气体淀积室使用一ALD方法。结构 : 一泵浦过程被执行以泵从一ALD的气体室(S10)。一种电离过程被执行以通过加速电子的电离气体具有10至15aeV的能量在所述气体(S12)。一种离子化质谱是通过使所获得的气体以一种剩余气体分析仪-四极质谱仪(S14)。一种气体分析过程被执行，以分析该气体通过使用所述质谱(S16)。kipo2005 |
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