| 离子注入装置 |
| JP2007103142 2007-4-10 发明申请 |
| 2008-10-30 |
| 要解决的问题 : 以执行聚焦和整形合适的用于光束扫描器，而不管的一横截面的形状一离子束的离子注入装置。溶液 : 该离子注入装置是由一种离子源的10，一个质量-质谱磁体单元22，一个质量-质谱狭缝28，和一束扫描器36或该等。一第一四极垂直聚焦电磁铁24被设置在所述质量的一个部分从一个出口-质谱磁铁单元之前通过一束线的一个入射的所述质量-质谱狭缝，和第二四极垂直聚焦电磁铁30具有较大的有效比第一四极磁场效应的垂直部分中的聚焦电磁铁从一个出口所述的质量-光谱测定之前，一个入射狭缝通过一束线的所述光束扫描器，和所述聚焦和整形该离子束被执行的。具体地，一个长度在第二四极垂直聚焦电磁铁24在一个离子束前进方向被设定以比在第一四极垂直聚焦电磁铁被较长。作为结果，一个离子束聚焦通过第二四极垂直聚焦电磁铁力变得大于一垂直聚焦电磁铁的第一四极聚焦力。版权 : (C)2009，inpit |
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