气体分析装置及基板处理系统
 
US12057940  2008-3-28  发明申请

2008-10-2
 
  一种气体分析设备,包括 : 测量室,具有用于在其上安装基板的安装构件,样品吸附在基板上; 减压机构,用于对所述测量室的内部减压; 以及加热单元,用于加热其上具有吸附样品并安装在安装构件上的基板。 所述装置还包括 : 插入所述测量室中的质谱仪,用于检测随着温度升高从所述样品逸出的气体分子; 以及温度测量单元,用于通过使用检测衬底的光学厚度的干涉仪测量其上具有吸附样品的衬底的温度。
 
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