| 设备和方法用于控制一显影工艺，其 |
| KR1020050132417 2005-12-28 发明授权 |
| 2007-6-26 |
| 目的 : 一种装置和一显影工艺是提供一种用于控制方法，以减少使用的显影剂和以降低一种通过适当地控制所述显影工艺显影时间使用一个质量分析仪可检测的所述变化副产物的浓度排出的从一个排气端口。结构 : 一种装置，用于控制一显影工艺包括排气端口; 质量分析仪和一个控制模块。所述排气端口(210)被用于提供一种显影剂转移到一晶片和排气副产物。所述质量分析仪(220)是用于测量所述副产物的浓度通过使用一质量光谱。该控制模块(230)是用于控制该装置根据所述副产物的浓度的变化。kipo2007 |
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