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产业专利数据

超导体制造方法

US10842619 2004-5-10 发明申请

2005-11-10

提供了一种形成超导器件的方法，包括提供尺寸比不小于约102的衬底，利用离子束辅助沉积和离子束沉积缓冲膜以覆盖衬底，监测离子束在目标区域上的空间离子束密度，以及沉积超导体层以覆盖缓冲膜。可以利用接受角不小于10°的离子检测器进行监测。