| 曝光装置的控制方法、使用该方法的曝光方法及装置、以及元件制造方法 |
| CN200580022523.5 2005-8-8 发明申请 |
| 2008-1-9 |
| 本发明的目的在于提供一种能长期间良好地维持光学元件的特性的曝光装置的控制方法。藉由质量分析装置87来监测氧化性气体及被膜形成气体等恶化要因气体的分压，在控制装置90的控制下，将来自气体供应装置86的恶化抑制气体适当导入真空容器84中，因此能长期间良好地维持构成投影光学系统70等的光学元件的光学特性。又，藉由照度传感器88来监测构成投影光学系统70等的光学元件的反射率降低，在控制装置90的控制下，将来自气体供应装置86的恶化抑制气体适当导入真空容器84中。据此，能长期间良好地维持构成投影光学系统70等的光学元件的光学特性。 |
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