| 注入器 |
| KR1020060049736 2006-6-2 发明申请 |
| 2007-12-6 |
| 目的 : 离子注入设备被提供给使用一个传感器用于检测孔尺寸和一个控制部分，用于确定所述孔尺寸，通过使用一从所述传感器输出的信号，和寿命得到的信息的一个解析单元，构成 : 一种离子源(110)产生一个导电杂质离子束(170)。一种质量光谱仪(120)分离和所述杂质离子束的摘要。一种扫描系统(130)扫描离子束在一个晶片。一种磁集成电极(140)聚焦离子束。一种解析单元(150)携带所要传递的离子束通过孔的预定尺寸，和控制所述导电杂质离子束的线宽度。一种传感器(160)感测一扩展的程度所述孔通过所述离子束，kipo2008 |
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