| 离子注入机与超导磁铁 |
| JP2007015280 2007-1-25 发明申请 |
| 2007-8-16 |
| 要解决的问题 : 以提供一种离子注入机，其具有一质谱分析磁铁和\/或其他磁性结构要使用的用于提供离子束对注入离子到一个硅晶片，并提供其系统和方法。溶液 : 该离子注入机10是由一种离子源12，以产生离子束14的移动旁边的束线和一离子注入室22。在所述工件的表面上，以便注入离子24通过该离子束，所述工件是定位到横该离子束。磁铁30，40，42，44并排设置的各种超导材料制成的该束线被提供给操作该离子束及离子。所述超导材料被制成一个低的临界温度TC的材料(E。G。NbTi)或更高的TC材料(E。G。mgb2，bi2sr2cacu2o8)。版权 : (C)2007，inpit |
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