| ALD室和使用该相同的ALD方法 |
| KR1020050123319 2005-12-14 发明授权 |
| 2007-2-26 |
| 目的 : ALD(原子层沉积)设备被提供到监视一个过程中的反应机构用于沉积一薄通过检测气体膜，同时使用一种质量分析仪。结构 : 一样品(100)被放置在一个腔室(211)其中，一个所述样品上的反应空间被定义。材料气体被供给到所述室通过一供应线(212)。所述室中的所述反应气体被排出的排气线路(213)。一种质量分析仪(214)是安装在所述样品的一个端部相邻的所述排气所述排气管线的线或所述入口中。所述质量分析仪可以是QAM(四极质量分析仪)。kipo2007 |
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