| 曝光系统的控制方法、使用其的曝光方法和系统、以及器件的制造方法 |
| SG2007008055 2005-8-8 发明申请 |
| 2007-3-20 |
| 公开了一种用于控制曝光系统的方法，其能够长时间保持光学装置的良好特性。 具体而言，通过质谱仪(87)监测作为劣化因素的气体例如氧化气体或涂膜形成气体的分压，并且相应地在控制单元(90)的控制下从气体供应单元(86)向真空容器(84)中供应劣化抑制气体。 因此，构成投影光学系统(70)等的光学器件的光学特性可以长时间保持良好。 另外，通过照度传感器(88)监视构成投影光学系统(70)等的光学装置的反射率的降低，相应地，在控制部(90)的控制下，从气体供给部(86)向真空容器(84)内供给劣化抑制气体。 该动作也能够使构成投影光学系统(70)等的光学装置长期具有良好的光学特性。 |
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