| 级控制方法和设备，级控制的程序，曝光装置，和装置的制造方法。 |
| JP2005234060 2005-8-12 发明申请 |
| 2007-2-22 |
| 要解决的问题 : 以提供一阶段控制方法，设备和该等，可以提高同步精度的阶段和吞吐量，同时保持高的鲁棒性。溶液 : 该系统中，一个补偿器63产生一补偿信号质量光谱仪1，或ms1其补偿同步误差一晶片台WS和分划板之间的嵌合阶段RFS，一个干扰估计器71考虑了晶片台WS和掩模版微动台RFS作为一个级，和估计扰动施加到这个阶段，和在其一个操作部分73产生一个干扰补偿信号通过去除假定扰动ms2从所述补偿信号MS1。版权 : (C)2007，inpit |
微信公众号