| 束照射装置 |
| JP2004347499 2004-11-30 发明申请 |
| 2006-6-15 |
| 要解决的问题 : 以提供一束照射装置能够减少污染的。溶液 : 在所述束照射装置构成为使得，后一束从离子源1通过一质量光谱仪电磁装置3和一光束整形装置，所述光束是通过一种能量分析仪分析的能量的一种后者阶段通过一个偏转扫描装置7和一束平行装置用于扫描所述光束在所述的横向方向，以及一个加速\/减速装置，和使后，该光束被照射到晶片23通过安装一混合式角度能量滤波器18具有两个静电，电磁功能作为所述能量分析仪和安装一多表面能量的狭缝19具有多个能量的狭缝能的切换对应的离子物种到被照射在所述下游侧所述角度的能量滤波器，其中一高电流从低能量以高的能量束可被制成以被一状态中选择性地照射使该中性颗粒的污染，异质物质掺杂剂，金属，和颗粒或所述等被极度降低。版权 : (C)2006，膜℃。 |
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