产业集群信息网

产业专利数据

在工艺质谱中使用的半导体镀铜浴化学分析

US11352550 2006-2-13 发明申请

2006-6-15

本发明公开了一种过程中质谱(IPMS)系统，其使用内标来测定样品中分析物的浓度。内标具有与分析物不同的分子组成，但在化学和物理上与分析物充分相似，使得其在质谱仪中的电离过程中表现出与分析物基本相同的行为。