| 质量分析仪 |
| KR1020030036833 2003-6-9 发明申请 |
| 2004-12-16 |
| 目的 : 一质谱仪是提供以除去曝光的分析仪室和防止所述的降低生产率由于对污染形成的凹槽和突起对应于所述相反的一个上侧和所述其它侧上的凹槽该分析仪室的内侧壁的两侧，分别。结构 : 一质谱仪被用于一种离子注入装置用于半导体制造，质量光谱仪包括一个分析仪室(231)，多个电磁铁的安装在一个外该分析仪室的表面，和多个的导向件(20)连续地耦合到所述分析器的一个内壁腔室。每个所述的相反侧的导向件包括一个上形成一凹槽和一个投影对应于所述凹槽，kipo2005 |
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