| 清洁片，承载构件与一个清洁功能的清洗衬底的处理设备和方法 |
| KR1020040025960 2004-4-14 发明申请 |
| 2004-10-20 |
| 目的 : 提供一清洁片以供应一清洗部件不造成污染的基板处理装置通过将硅到一个当所述清洁部件清洁层被转移到所述基板处理装置，以消除粒子从所述内侧的所述基板处理装置。结构 : 一清洁片的制备是在其一个可释放的保护膜是一清洗层上叠层。当所述保护膜是从一清洗层剥离，相对强度的一个分数离子如ch3si^+，c3h9si^+，c5h15si2o^+，c5h15si3o3^+，c7h21si3o2^+，ch3sio^-，ch3sio2^-和Si^+在所述清洁层是不大于0.1相对于c2h3^+在该情况下的一个正的离子或O^-在该情况下一个根据一个时间--飞行的负离子质谱仪。kipo2005 |
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