| 基质辅助激光电离系统 |
| US10448631 2003-5-30 发明授权 |
| 2004-7-13 |
| 提供了一种基质辅助激光解吸和电离系统。 所述系统包括用于分析至少一个样品的质谱仪。 所述质谱仪包括用于在真空下接收样品的样品接收室。 提供了一种UV激光器，用于沿着与样品不相交的第一光束路径产生UV光束。 光束扩展器设置成与UV激光束光通信以扩展光束的直径。 提供与扩束器光通信的聚焦系统，以将从扩束器传播的激光束聚焦到预定的最小光斑尺寸。 所述聚焦系统沿着从所述扩束器传播的光束的路径定位，使得所述光束撞击所述聚焦系统的近似光学中心。 提供与从聚焦系统传播的聚焦光束光通信的高反射镜，以引导聚焦光束在预选的照射点照射样品。 期望地，激光器，扩束器和聚焦系统，优选透镜，被安装到相同的安装表面或平行的安装表面上，这些安装表面连接在一起以形成整体结构。 |
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